，臺積電在日本舉行了一場會議，介紹了 N3E 工藝節點的進展及其帶來的性能提升。除此之外，該公司還提供了下一代 N2 工藝的路線圖。

臺積電高級副總裁 Kevin Zhang 表示，公司的發展速度加快，2022 年的投資額達到了 54 億美元。此外，公司的在職人員也達到了 8558 人，顯示出公司正在快速擴大其設施并投入時間和金錢開發下一代工藝。

臺積電回顧了之前工藝節點的演變，同時展示了 5 納米工藝的每個衍生產品的性能提升。除了 N5P、N4 和 N4P 工藝外，該公司還公布了新的 N4X 節點的數據，稱其比三年前發布的 N5 工藝性能提高了 17%，芯片密度提高了 6%。

臺積電重申，3 納米工藝已經從 2022 年初開始量產。然而，更新的 N3E 工藝已經通過技術認證，并將于 2023 年下半年商業化。此外，3 納米家族中的高級版本之一 N3P 工藝將于 2024 年投產，比 N3E 工藝性能提高 5%，功耗降低 5-10%，芯片密度提高 1.04 倍。由于汽車行業的快速需求，臺積電還計劃推出基于 N3 工藝但針對自動駕駛等應用的 N3AE 節點，最初將以 PDK 套件的形式提供給公司進行測試和支持新工藝。

最后，該公司提到了其備受期待的 2 納米工藝，該工藝正在開發中，并計劃于 2025 年投產。臺積電將采用納米片技術，放棄 FinFET 晶體管，主要是由于性能效率方面的差異。此前有報道稱，2 納米技術將以優惠價格提供給蘋果，這表明蘋果對該工藝仍然有興趣。

最后臺積電日本總裁 Makoto Onodera 上臺發言，強調了公司為促進當地半導體產業而做出的努力。他表示，最先進的熊本廠計劃并按計劃于 2024 年底投產，這次活動的目的是激發日本商界對臺積電現有和下一代工藝的興趣。

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